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槽式湿化学设备

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  CYH3100系列槽式湿法设备

  适配12英寸晶圆，可处理光阻、硅基、氧化硅、氮化硅及各类金属膜；覆盖炉前清洗、光刻胶去除、薄膜刻蚀等多道湿法工艺。设备集...

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  CYH2100系列槽式湿法设备

  适配4–8英寸晶圆，兼容多种薄膜材料，覆盖清洗、去胶、刻蚀、晶圆回收等湿法工艺。支持50片批量自动传送，搭载高精度药液供

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